ETFMSCI ACWI IMI Semiconductors & Semiconductor Equipment ESG Screened Capped
iShares

iShares MSCI Global Semiconductors UCITS ETF

SEC0 XETRACapitalisationPhysique, complèteIrlande
Dernière clôture · EUR
13,78EUR
-9,46 % · -1,44 €
Clôtures publiées : 4 nov. 2026 - 5 nov. 2026
5 nov. 2026, clôture
SEC0Référence
Frais du fonds
Non publiéBase de frais non vérifiée
Encours
Non publié
Perf. 1 an
+43,7 %
Sharpe 3 ans
1,26
Volatilité 1 an
38,9 %annualisée
Positions
233Positions du fonds

Performance

Comparer
  • SEC0+43,7 %
  • Cours, EUR

Rendements

Rendements1M3M6MDepuis janv.1A3A5A
SEC0-30,2 %-20,3 %-10,3 %+44,1 %+43,7 %+180,1 %+180,7 %
MSCI World-2,8 %-0,6 %+7,8 %+14,0 %+14,1 %+65,6 %+64,8 %
Écart avec MSCI World-27,4 %-19,7 %-18,2 %+30,1 %+29,6 %+114,5 %+115,8 %

Risque et rendement

Ratio de Sharpe · 3A
1,26
En ligne avec MSCI World · 1,24
Rendement annualisé
+48,1 %
Volatilité
33,5 %
Perte max.
-39,3 %avr. 2025

Sharpe face aux indices

SEC0
1,26
MSCI World
1,24
S&P 500
1,21
STOXX Europe 600
1,04
MSCI Emerging Markets IMI
0,93
CAC 40
0,37
Méthode

Rendements hebdomadaires en EUR, sur cours ajustés. Le Sharpe divise l'excédent de rendement annualisé sur le taux au jour le jour en euro (Xtrackers II EUR Overnight Rate Swap UCITS ETF 1C) par sa volatilité. La perte max. utilise les clôtures quotidiennes.

Principales positions

Top 10
60,1 %
Positions
233
Au
Positions du fonds
  1. 1ADVANCED MICRO DEVICES8,88 %
  2. 2TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING7,94 %
  3. 3NVIDIA7,79 %
  4. 4BROADCOM INC7,61 %
  5. 5MICRON TECHNOLOGY7,19 %
  6. 6SK HYNIX4,93 %
  7. 7ASML HOLDING4,35 %
  8. 8TEXAS INSTRUMENT3,98 %
  9. 9APPLIED MATERIAL INC3,79 %
  10. 10LAM RESEARCH3,66 %

Pays

Classé 30,3 %
Premier pays
15,2 %Taïwan
Top 3
27,2 %
Nombre effectif
32,41 / HHI

Capitalisation

Poids et positions

60,1 %du fonds dans les 10 premières positions
  • Positions 1-10
  • Positions 11-50
  • Positions 51-200
  • Positions 201+

Répartition par taille

Non publié

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Recherche factuelle, sans note d’adéquation ni recommandation d’investissement. Les relations historiques peuvent évoluer.